ECLIPSE L300ND, L300N und L200ND, L200N

Eine Reihe von Halbleitermikroskopen, die sich ideal für die Inspektion von integrierten Schaltungen (IC), Flachbildschirmen (FPD), elektronischen Bauelementen mit hoher Integrationsdichte (LSI) sowie für viele weitere Anwendungen eignet.
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Moderne Halbleitermikroskope für die Inspektion der neuesten Fabrikationen

Die hervorragenden Optiken der Nikon CFI60-2 Serie liefern exzellente Bilder für beide Okulare und auch für die digitalen Nikon-Kameras mit Analyse-Software. Die Kombination dieser überlegenen Optik mit einem außergewöhnlichen Beleuchtungssystem liefert Bilder mit hervorragendem Kontrast und Auflösung.

Besondere Produktmerkmale

Universelle optische Kontrastverfahren

Reflektiertes Licht: Hellfeld, Dunkelfeld, Polarisation (POL), differenzieller Interferenzkontrast (DIC), Epi-Fluoreszenz und Zweistrahl-Interferometrie. Durchlicht: Hellfeld, Dunkelfeld, Polarisation, differentieller Interferenzkontrast und Phasenkontrast.

Ergonomisches Gestaltungskonzept

Die optimale Positionierung der Bedienelemente mit dem winkelverstellbaren Einblicktubus ermöglicht ein ermüdungsfreies Arbeiten. Für die korrekte Beobachtung von Rohstoffen, Halbleitern und industriellen Bauteilen wird seitenrichtiges, aufrechtes geliefert.

Die Serie Digital Sight

In Kombination mit Digital-Sight-Kameras für Mikroskope ermöglichen sie die effiziente Aufnahme hochauflösender Bilder. Mithilfe der Software NIS-Elements können Bilder verarbeitet werden, um Messungen und Analysen durchzuführen.

Intelligente digitale Kommunikation

Das Mikroskop erkennt und steuert das verwendete Objektiv, die Lichtintensität, die episkopische Beleuchtung und die Blende über eine USB-Verbindung zur NIS-Elements-Software von Nikon.

CFI60-2 Objektiv-Serie

Nikons innovatives Design ermöglicht klare Abbildungsverfahren, einschließlich Hellfeld, Dunkelfeld, Polarisation (POL), differentiellem Interferenzkontrast (DIC) und Zweistrahl-Interferometrie mit hohem Kontrast.

Integration mit dem Wafer Loader NWL200

Durch die Integration in das NWL200 kann das L200N die Anforderungen der Wafer-Inspektion, wie z. B. Mikroinspektionen, erfüllen.

Wesentliche Eigenschaften

Branchen

Die Applikationen konzentrieren sich auf Inspektionsaufgaben in den Bereichen Elektronik und Telekommunikation. Antennenwellenleiter werden mit höchster Präzision gemessen, ebenso wie andere Komponenten wie Wafer für Halbleiter- oder Photovoltaikgeräte und mikroelektromechanische Systeme (MEMS), die beispielsweise in Smartphones, Gyroskopen und Beschleunigungsmessern verwendet werden.

Aufrechte Mikroskope L-Serie

Digital Sight Serie

NIS Elements

L300NL200NL300NDL200ND
Illumination typeEpiscopicEpiscopic/Diascopic
Main bodyPower sources for motorized control built-in
Motorized control for nosepiece, Light intensity control, Aperture diaphragm control,
Episcopic/Diascopic change-over (L300ND/L200ND only)
NosepieceGeneralMotorized universal sextuple nosepiece
Centering FunctionYes-Yes-
EPI/DIA changeover--YesYes
Focusing mechanismCross travel29 mm
Coarse12.7 mm per rotation (torque adjustable, refocusing mechanism provided)
Fine0.1 mm per rotation (in 1 μm increments)
Episcopic illuminator12V-50W halogen lamp light source built in, LV-LL LED Lamphouse

Observation methods:
Brightfield, Darkfield, Simple polarizing, DIC, Epi-fluorescence (L300N/L300ND/L200ND only)
Diascopic illuminator-12V-50W halogen lamp light source built-in
LV-LL LED Lamphouse
InterfaceUSB x 1, RS232C (for Intensilight) x 1
Eyepiece tubesL2-TTA tilting trinocular tube (tilt angle: 0-30 °)
L2-TT4A tilting trinocular tube (tilt angle: 0-30 °) with centering and focus adjustment mechanism
LV-TI3 trinocular tube (erected image)
StagesL3-S12 14 x 12 stageL2-S8A 8 x 8 stageL3-S12 14 x 12 stageL2-S8A 8 x 8 stage
LV-SHA stage handle adapter attachable to all stages
EyepiecesCFI eyepiece lens series
Objective lensesCFI60-2 / CFI60 objective lens series
Antistatic mechanism1000-10 V, within 0.2 sec
Power consumption1.2 A / 90 W
Weight (approx.)Body Only38 kg31 kg40 kg31 kg

Zugehörige Produkte

NWL_L200N

NWL200 Wafer Loader Serie

Nikons innovative, voll ausgestattete NWL200 Waferloader unterstützen die umfassende Inspektion von Halbleiterwafern mit einem Durchmesser von 6" (150 mm) und 8" (200 mm) mit Hilfe eines optischen Mikroskops oder eines Videomesssystems, z. B. Nikon NEXIV.
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Software

Die NIS-Elements Software verwaltet Nikon Digital Sight Kameras zusammen mit Nikon Mikroskopen, um die besten Bilder für die Verarbeitung zu erfassen. Sie organisiert die aufgenommenen Bilder und verarbeitet sie logisch in einem reibungslosen Arbeitsablauf.
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