Objektivlinsen

CFI60-2 Objektive

Die CFI60-2 Objektive sind eine Weiterentwicklung der bewährten CFI60-Serie mit hoher NA und großem Arbeitsabstand. Durch die Verwendung von Nikons einzigartiger Phasen-Fresnel-Linse haben die CFI60-2-Objektive einen großen Arbeitsabstand und erreichen eine starke Korrektur der chromatischen Aberration für scharfe, klare Bilder.

Objective LensMagnificationNAWD (mm)
BrightfieldT Plan EPI (Semi-apochromat) *11X0.033.8
2.5X 0.086.5
TU Plan Fluor EPI (Semi-apochromat)5X0.1523.5
10X0.30 17.3
20X0.45 4.5
50X0.801.0
100X0.90 1.0
TU Plan Apo EPI (Apochromat) *250X0.802.0
100X0.902.0
150X0.901.5
PolarizingTU Plan Fluor EPI P
Polarizing (Semi-apochromat)
5X0.1523.5
10X0.3017.3
20X0.454.5
50X0.801.0
100X0.901.0
Brightfield
Long Working Distance
TU Plan EPI ELWD (Semi-apochromat) *220X0.40 19.0
50X0.6011.0
100X0.804.5
Brightfield
Super-long Working Distance
T Plan EPI SLWD (Semi-apochromat) *210X0.2037.0
20X0.3030.0
50X0.4022.0
100X0.6010.0
Brightfield/DarkfieldTU Plan Fluor BD (Semi-apochromat)5X0.1518.0
10X0.3015.0
20X0.454.5
50X0.801.0
100X0.901.0
TU Plan Apo BD
Universal Plan Apo (Apochromat) *2
50X0.802.0
100X0.902.0
150X0.901.5
Brightfield/Darkfield
Long Working Distance Type
TU Plan BD ELWD (Semi-apochromat) *220X0.4019.0
50X0.6011.0
100X0.804.5

*1 Eine zirkulare Polarisationsplatte und ein Depolarisator sind in die T Plan EPI 1-fach/2,5-fach Objektive eingebaut. (Die zirkulare Polarisationsplatte kann angebracht/abgenommen werden.)
*2 Phasen-Fresnel-Linse (Typ Beugungsoptisches Element)

CFI60-Objektive

Diese Objektive wurden für das CFI60-System entwickelt, Nikons geschütztes optisches System, das eine Unendlich-Optik mit der überlegenen Leistung des CF-Optiksystems kombiniert. Der Vorteil des parfokalen Abstands von 60 mm, einem neuen Standard, wurde genutzt, um den Arbeitsabstand zu verlängern und gleichzeitig die hohe NA beizubehalten, was zu scharfen und klaren Bildern mit hohem Kontrast und hoher Auflösung führt.

Objective LensMagnificationNAWD (mm)
BrightfieldL Plan EPI (Achromat)40X0.651.00
LE Plan EPI (Achromat)5X0.1031.00
10X0.2513.00
20X0.403.60
50X0.750.50
100X0.900.31
Brightfield
With Correction Mechanism
L Plan EPI CR
For Inspecting LCDs Plan
20X 0.4510.90 - 10.00
50X0.703.90 - 3.00
100X0.851.20 - 0.85
100X0.851.30 - 0.95

CF unendlich-korrigierte Objektive

Die Objektive unterstützen das optische CF-System, das die bewährte CF-Optik mit der Korrektur für Unendlich kombiniert, um scharfe, hochauflösende Bilder mit hohem Kontrast und minimalem Streulicht zu erzeugen.

Objective LensMagnificationNAWD (mm)
BrightfieldCF IC EPI Plan (Achromat)2.5XA0.088.80
5XA0.1322.50
10XA0.3016.50
20XA0.463.10
50XA0.800.54
100XA0.950.30
CF IC EPI Plan ELWD
Long working distance
20X0.4011.00
50X0.558.70
100X0.802.00
CF IC EPI Plan SLWD
Ultra-long working distance
10X0.2120.30
20X0.3520.50
50X0.4513.80
100X0.734.70
CF IC EPI Plan Apo
High-Resolution (Apochromat)
50XA0.950.35
100XA0.950.32
150XB0.950.20
Double Beam InterferenceCF IC EPI Plan DI10XA0.307.40
20XA0.404.70
50XA0.553.40
100XA0.702.00
Interference ObjectivesCF IC EPI Plan TI2.5XA0.0810.30
5XA0.139.30

*1 Verwendung in Kombination mit Analysatoren und Polarisatoren. Einige Randbereiche innerhalb des Sichtfeldes können nicht abgedeckt werden.

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