Nikon 已推出 NEXIV VMF-K 系列高性能影像测量系统，可显著提高测量吞吐量。
东京 – Nikon Corporation (Nikon) 已发布新一代影像测量系统 NEXIV VMF-K 系列，旨在满足日益增长的半导体和电子元件检测需求。
NEXIV VMF-K 系列基于已获成功的 VMZ-K 系列，不仅适用于包括先进封装、基板生产、晶圆检测和探针卡检测在内的半导体制造领域，而且还为广大行业带来了显著优势。
随着半导体器件体积越来越小且集成度越来越高，检测流程对于保持质量稳定愈加重要。为应对这一挑战，NEXIV VMF-K 系列提供稳定的微米级尺寸测量功能并显著提高吞吐量，从而为半导体器件制造中的严格质量控制流程提供支持。
新推出的 NEXIV VMF-K 系列包括用于取代 VMZ-K3040 的 VMF-K3040，以及用于取代 VMZ-K6555 的 VMF-K6555。
NEXIV VMF-K 系列的主要优势包括：
- 提高测量吞吐量：与之前的 VMZ-K 型号相比，VMF-K 系列可将测量流程的吞吐量提高至 1.5 倍（在 Nikon 的标准测量条件下），从而大幅缩短测量时间并提高生产率。
- 高级光学系统：VMF-K 系列配备共焦光学系统，能够在视场内同时进行二维尺寸测量和高度测量，与仅使用明视场图像的高度测量相比，吞吐量得到了显著提高。
- 光源改进：共焦光源已从氙灯改为 LED，使用寿命从 3,000 小时延长到 30,000 小时。由于这一增强功能，不仅提高了运行吞吐量，而且还降低了对灯泡更换的需求。
- 型号阵容扩大：该系列现在包括标准化的 45 倍物镜型号，可满足更精细测量流程中对先进半导体测量的需求。
- 符合 SEMI S2/S8 标准：在按照 SEMI S2/S8 指南正确安装后，VMF-K 系列可符合半导体制造设备的行业安全标准。
- 全新软件功能：该系列能够在测量过程中显示剩余时间。
- 全新外观设计：该系列采用黑色和银色搭配的流线型工厂设计。
“我们很高兴推出 NEXIV VMF-K 系列，这是业界领先的解决方案，能够满足半导体和电子元件制造业中对更精细高速测量日益增长的需求，”Nikon 发言人表示。
“我们新推出的系统能够大幅提高测量吞吐量并保持高精度，使制造商能够加强质量控制流程，并在半导体器件日益小型化且集成度不断提高的背景下，加速产品开发。”
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