정밀 검사의 측정 속도를 향상시킨 니콘 NEXIV VMF-K 시리즈

2024년 12월 05일

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니콘은 측정 처리량을 크게 개선한 고성능 화상 측정 시스템 NEXIV VMF-K 시리즈를 출시했습니다.

도쿄 – 니콘 코퍼레이션(니콘)은 증가하는 반도체 및 전자 부품 검사 수요를 충족하기 위해 설계된 차세대 화상 측정 시스템인 NEXIV VMF-K 시리즈를 출시했습니다.

VMZ-K 시리즈의 성공에 기반하여 개발된 NEXIV VMF-K 시리즈는 첨단 패키징, 기판 생산, 웨이퍼 검사, 프로브 카드 검사 등 반도체 제조 외에도 광범위한 산업 분야에 중요한 이점을 제공합니다.

반도체가 점점 소형화되고 더 많은 요소가 집적화됨에 따라 품질 유지에 있어 검사 프로세스의 중요성이 점점 더 커지고 있습니다. NEXIV VMF-K 시리즈는 미크론 수준의 치수를 안정적으로 측정하는 동시에 처리량을 크게 개선하여 반도체 소자 제조의 엄격한 품질 관리를 지원함으로써 이러한 과제를 해결합니다.

새로운 NEXIV VMF-K 시리즈는 VMZ-K3040을 대체하는 VMF-K3040과 VMZ-K6555를 대체하는 VMF-K6555로 구성됩니다.

NEXIV VMF-K 시리즈의 주요 이점은 다음과 같습니다.

향상된 측정 처리량: VMF-K 시리즈는 이전의 VMZ-K 모델에 비해 1.5배 높은 측정 처리량을 달성하여(니콘 표준 측정 조건 기준) 측정 시간을 크게 단축하고 생산성을 높였습니다.
첨단 광학: 공초점 광학 시스템이 장착된 VMF-K 시리즈는 시야 내에서 2D 및 높이 측정을 동시에 수행할 수 있어 명시야 이미지만을 사용한 높이 측정에 비해 처리량이 훨씬 더 뛰어납니다.
개선된 광원: 공초점 광원이 제논 램프에서 LED로 변경되어 수명이 3,000시간에서 30,000시간으로 증가했습니다. 이러한 개선으로 운영 효율성이 향상되고 램프 교체 주기가 줄어듭니다.
확장된 모델 라인업: 이제 이 시리즈에는 표준화된 45x 대물렌즈 모델이 포함되어 더욱 정밀한 측정을 위한 첨단 반도체 측정 요구 사항을 지원합니다.
SEMI S2/S8 규정준수: VMF-K 시리즈는 SEMI S2/S8 지침에 따라 적절히 설치하면 반도체 제조 장비에 적용되는 산업 안전 표준을 충족합니다.
새로운 소프트웨어 기능: 이 시리즈에는 측정 중 남은 시간을 표시하는 기능을 제공합니다.
새로운 외관 디자인: 이 시리즈는 블랙과 실버 톤의 세련된 팩토리 디자인이 특징입니다.