Die NEXIV VMF-K-Serie von Nikon revolutioniert die optische Messtechnologie, indem sie 2D- und 3D-Messungen mit hoher Geschwindigkeit und außergewöhnlicher Genauigkeit kombiniert. Das fortschrittliche konfokale System erhöht den Durchsatz bei verschiedenen Proben und unterstützt die Miniaturisierung in der Halbleiter- und Präzisionstechnik.
Die NEXIV VMF-K-Serie von Nikon verbessert herkömmliche Messsysteme durch den Einsatz eines fortschrittlichen konfokalen optischen Systems. Die VMF-K-Serie ist auf eine höhere Messgeschwindigkeit ausgelegt und ermöglicht es den Benutzern, unterschiedliche Materialien und Komponenten mit beispielloser Effizienz und Präzision zu analysieren.
Die NEXIV VMF-K-Serie bewältigt die Herausforderungen, die sich aus komplexen Geometrien der Proben ergeben, einschließlich kontrastreicher Oberflächen und transparenter Materialien. Dadurch können Benutzer detaillierte Messungen erfassen, die zuvor nur schwer zu erreichen waren. Die integrierten 2D- und 3D-Messfunktionen des Systems verkürzen die Inspektionszeiten im Vergleich zu herkömmlichen Methoden erheblich und ermöglichen so deutlich schnellere und umfassendere Qualitätskontrollprozesse.
Die NEXIV VMF-K-Serie verbessert die optischen Messmöglichkeiten erheblich und ermöglicht präzise 2D- und 3D-Inspektionen verschiedener Proben. Das konfokale System gewährleistet genaue Messungen von kontrastreichen und transparenten Materialien und verbessert so die Oberflächen- und Höhenanalysen. Dieses System ermöglicht eine zuverlässige Inspektion komplexer Geometrien und feiner Strukturen, was besonders bei der Herstellung von Halbleitern und miniaturisierten Komponenten von Vorteil ist.
Die NEXIV VMF-K-Serie kombiniert 2D- und Höhenmessungen in einem Gerät und erreicht so einen 1,5-mal höheren Durchsatz als frühere Modelle. Das konfokale optische System ermöglicht gleichzeitige 2D- und Höhenmessungen innerhalb des Sichtfelds, wodurch die Messzeit erheblich verkürzt wird, ohne Kompromisse bei der Genauigkeit einzugehen.
Die NEXIV VMF-K-Serie von Nikon eignet sich hervorragend zum Messen verschiedener Halbleiterkomponenten, einschließlich Sondenkarten (Probe Cards) und Bonddrähten. Diese Vielseitigkeit macht sie zu einem unverzichtbaren Werkzeug für eine umfassende Halbleiterprüfung und Qualitätssicherung, das Arbeitsabläufe durch die Zusammenführung mehrerer Messaufgaben in einem effizienten System rationalisiert.
Die Standardserie NEXIV VMF-K von Nikon umfasst ein 45x-Objektiv zur Unterstützung von Messungen im Bereich Wafer-Level-Packaging (WLP). Diese Fähigkeit zur hohen Vergrößerung ermöglicht eine präzise Inspektion ultrafeiner Strukturen, was für die Aufrechterhaltung der Qualitätskontrolle von entscheidender Bedeutung ist, da die Halbleiterkomponenten immer kleiner werden.
Die NEXIV VMF-K-Serie von Nikon misst präzise lange Dimensionen, die über das Sichtfeld hinausgehen, unter Beibehaltung der Genauigkeit. Dies ist eine wesentliche Funktion zum Messen von Halbleiterbauelementen, bei denen es auf die Positionsgenauigkeit in langen Dimensionen und die Messung des Koordinatensystems ankommt.
Dank des fortschrittlichen, konfokalen optischen Systems ermöglicht die NEXIV VMF-K-Serie von Nikon stabile Messungen von Proben mit hohem Kontrast. Dies sorgt für klare und genaue Bilder, selbst bei Proben mit erheblichen Unterschieden in Helligkeit oder Reflektivität.
Die NEXIV VMF-K-Serie von Nikon misst hochgradig transparente und dünne Proben präzise und löst damit ein häufiges Problem bei optischen Messsystemen. Diese Fähigkeit erweitert die Anwendbarkeit zum Messen transparenter und dünner Proben, wie Filme auf Metalloberflächen und Halbleiterresists, und erhöht die Vielseitigkeit bei verschiedenen Messungen.
Die NEXIV VMF-K-Serie kombiniert optische 2D- und 3D-Messungen mit einem 1,5-mal höheren Durchsatz für Probecards. Sie verfügt über ein 45-faches Objektiv und eine konfokale LED-Lichtquelle (30.000 Stunden Lebensdauer) und unterstützt Wafer-Level-Packaging und Messungen langer Dimensionen. SEMI S2/S8-konform, eignet es sich hervorragend für Anwendungen in der Halbleiter- und Präzisionstechnik.
Hübe (XYZ): 300x400x150 mm
| VMF-K3040 / VMF-K6555 | |||||||
| Measuring head | Standard head (Type-S) | High-magnification head (Type-H) | 45× High-magnification head | ||||
| Optical magnification | Magnification | 1.5× | 3.0× | 7.5× | 15× | 30× | 45× |
| Working distance | 24 mm | 24 mm | 5 mm | 20 mm | 5 mm | 5 mm | |
| Confocal optics (height measurement) | Maximum scan height | 1 mm | |||||
| Field of view | 7.80×5.82 mm | 3.90×2.91 mm | 1.56×1.17 mm | 0.78×0.58 mm | 0.39×0.29 mm | 0.26×0.19 mm |
|
| Height measurement repeatability (2σ) | 0.6 μm | 0.35 μm | 0.25 μm | 0.25 μm | 0.2 μm | 0.2 μm | |
| Height resolution | 0.025 μm | 0.01 μm | |||||
| Light source | Green LED | ||||||
| Bright Field Optics (two-dimensional measurement) | Magnification method | Motorised 5-step zoom | |||||
| Field of view | 7.80×5.85~ 0.52×0.39 mm | 3.90×2.92~ 0.26×0.19 mm | 1.56×1.17~ 0.10×0.078 mm | 1.26×0.95~ 0.099×0.074 mm | 0.63×0.47~ 0.052×0.039 mm | 0.63×0.47~ 0.052×0.039 mm |
|
| Illumination | Diascopic, coaxial episcopic and ring | Diascopic, coaxial episcopic | |||||
| Light source | White LED | ||||||
| Autofocus | TTL Laser AF, Image AF | ||||||
| Main body | Power source | AC 100V-240V ±10%, 50/60 Hz | |||||
| Power consumption | 13A-10A | ||||||
| Safety standard | SEMI S2/S8 compliance *1 | ||||||
| Model | VMF-K3040 | VMF-K6555 | |||||
| Main Body | XYZ strokes | 300×400×150 mm | 650×550×150 mm | ||||
| Accuracy guaranteed loading capacity | 20 kg | 30 kg | |||||
| Maximum permissible error (L: Length in mm) | Eux, MPE Euy, MPE ± (1.2 + 4L/1000) μm | ||||||
| Euxy, MPE ± (2.0 + 4L/1000) μm | |||||||
| Euz, MPE ± (1 + L/1000) μm | |||||||
| Minimum readout | 0.01 μm | ||||||
| Dimensions (WxDxH) and weight | Main body and table | 1146×1247×1973 mm / approx. 800 kg | 1198×1640×1973 mm / approx. 800 kg | ||||
| Controller | 190×450×440 mm / approx. 14 kg | ||||||
| Recommended installation dimensions (WxD) *2 | 3150×3000 mm | 3200×3300 mm | |||||
| Minimum installation dimensions (WxD) | 2500×1600 mm | 2500×1900 mm | |||||
*1: If installed according to SEMI guidelines, VMF-K will be compliant with SEMI S2/S8.
*2: Includes our recommended maintenance space.
Hübe (XYZ): 650x550x150 mm
| VMF-K3040 / VMF-K6555 | |||||||
| Measuring head | Standard head (Type-S) | High-magnification head (Type-H) | 45× High-magnification head | ||||
| Optical magnification | Magnification | 1.5× | 3.0× | 7.5× | 15× | 30× | 45× |
| Working distance | 24 mm | 24 mm | 5 mm | 20 mm | 5 mm | 5 mm | |
| Confocal optics (height measurement) | Maximum scan height | 1 mm | |||||
| Field of view | 7.80×5.82 mm | 3.90×2.91 mm | 1.56×1.17 mm | 0.78×0.58 mm | 0.39×0.29 mm | 0.26×0.19 mm |
|
| Height measurement repeatability (2σ) | 0.6 μm | 0.35 μm | 0.25 μm | 0.25 μm | 0.2 μm | 0.2 μm | |
| Height resolution | 0.025 μm | 0.01 μm | |||||
| Light source | Green LED | ||||||
| Bright Field Optics (two-dimensional measurement) | Magnification method | Motorised 5-step zoom | |||||
| Field of view | 7.80×5.85~ 0.52×0.39 mm | 3.90×2.92~ 0.26×0.19 mm | 1.56×1.17~ 0.10×0.078 mm | 1.26×0.95~ 0.099×0.074 mm | 0.63×0.47~ 0.052×0.039 mm | 0.63×0.47~ 0.052×0.039 mm |
|
| Illumination | Diascopic, coaxial episcopic and ring | Diascopic, coaxial episcopic | |||||
| Light source | White LED | ||||||
| Autofocus | TTL Laser AF, Image AF | ||||||
| Main body | Power source | AC 100V-240V ±10%, 50/60 Hz | |||||
| Power consumption | 13A-10A | ||||||
| Safety standard | SEMI S2/S8 compliance *1 | ||||||
| Model | VMF-K3040 | VMF-K6555 | |||||
| Main Body | XYZ strokes | 300×400×150 mm | 650×550×150 mm | ||||
| Accuracy guaranteed loading capacity | 20 kg | 30 kg | |||||
| Maximum permissible error (L: Length in mm) | Eux, MPE Euy, MPE ± (1.2 + 4L/1000) μm | ||||||
| Euxy, MPE ± (2.0 + 4L/1000) μm | |||||||
| Euz, MPE ± (1 + L/1000) μm | |||||||
| Minimum readout | 0.01 μm | ||||||
| Dimensions (WxDxH) and weight | Main body and table | 1146×1247×1973 mm / approx. 800 kg | 1198×1640×1973 mm / approx. 800 kg | ||||
| Controller | 190×450×440 mm / approx. 14 kg | ||||||
| Recommended installation dimensions (WxD) *2 | 3150×3000 mm | 3200×3300 mm | |||||
| Minimum installation dimensions (WxD) | 2500×1600 mm | 2500×1900 mm | |||||
*1: If installed according to SEMI guidelines, VMF-K will be compliant with SEMI S2/S8.
*2: Includes our recommended maintenance space.
Die NEXIV VMF-K-Serie bietet fortschrittliche optische Messungen für verschiedene Branchen. Das konfokale System ermöglicht präzise 2D- und 3D-Messungen für verschiedene Komponenten und ist für kontrastreiche und transparente Proben geeignet. Mit einem verbesserten Durchsatz und einer hohen Vergrößerung unterstützt es die Miniaturisierung und komplexe Geometrien in der modernen Fertigungsindustrie, insbesondere in der Halbleiter- und Elektronikindustrie.
Die NEXIV VMF-K-Serie kombiniert gleichzeitige 2D- und Höhenanalysen in einem einzigen Sichtfeld und ist damit ideal für fortschrittliche Verpackungsprozesse geeignet. Das neu standardisierte 45x-Objektiv ermöglicht die genaue Messung von Merkmalen unter 2 µm und stellt sich damit direkt den Herausforderungen, die sich aus den immer komplexeren Architekturen von Halbleiterbauelementen ergeben.
Die NEXIV VMF-K-Serie bietet im Vergleich zu ihrem Vorgänger eine 1,5-fache Verbesserung des Durchsatzes bei der Messung von Probecards. Diese Erhöhung der Geschwindigkeit geht mit der Fähigkeit des Systems einher, stabile Messungen über das Sichtfeld hinaus aufrechtzuerhalten, wodurch Inspektionsprozesse optimiert werden und gleichzeitig eine umfassende Genauigkeit bei der Auswertung der Probecard gewährleistet wird.
Die NEXIV VMF-K-Serie verfügt über eine fortschrittliche konfokale Optik, die eine präzise Inspektion von Oberflächen mit unterschiedlicher Reflektivität gewährleistet, und ist somit die ideale Lösung für die Analyse von Halbleiterwafern. Das standardisierte 45-fache Objektiv erfasst selbst die feinsten Wafermerkmale, während die gleichzeitige 2D- und Höhenmessungsfunktion die Inspektionseffizienz in jedem Sichtfeld maximiert.
Die NEXIV VMF-K-Serie ist für Arbeitsabläufe bei der Substratinspektion optimiert und erzielt stabile Messungen bei anspruchsvollen Materialien, einschließlich kontrastreicher und transparenter Proben. Das System baut auf einer bewährten konfokalen Technologie auf und bietet eine 1,5-mal schnellere Scangeschwindigkeit als die vorherige Generation, wobei die Genauigkeit beibehalten wird, die für Standards der modernen Substratproduktion erforderlich ist.
Die NEXIV VMF-K-Serie von Nikon ist besonders praktisch für die Halbleiterindustrie, insbesondere zum Messen von Probecards und zur Unterstützung erweiterter Anforderungen an die Halbleitermessung. Sie eignet sich zudem zum Messen von Kontrast mit hoher Helligkeit und transparenten Proben mit instabiler Lichtreflexion. Das System unterstützt WLP-Messungen (Wafer-Level-Packaging) sowie Messungen langer Dimensionen außerhalb des Sichtfelds.
Die VMF-K-Serie von Nikon verfügt über eine verbesserte Scangeschwindigkeit für die Höhenmessung und erreicht eine Durchsatzsteigerung von etwa dem 1,5-fachen im Vergleich zu anderen Modellen. Zusätzlich wurde ein 45x-Objektiv mit hoher Vergrößerung in das Sortiment aufgenommen, um dem Bedarf an Messungen feinerer Abmessungen gerecht zu werden.
Zu den wesentlichen Merkmalen gehören ein verbesserter Messdurchsatz, eine von Xenon auf LED umgestellte konfokale Lichtquelle für eine längere Lebensdauer (3.000 bis 30.000 Stunden), ein standardisiertes 45x-Modellangebot für erweiterte Halbleitermessungen, die Einhaltung der SEMI S2/S8-Standards, eine verbesserte Wartbarkeit und ein neues Außendesign. Das System kombiniert die 2D-Messung mithilfe von Hellfeldbildern mit der gleichzeitigen Höhenmessung mithilfe eines konfokalen optischen Systems.
Die NEXIV VMF-K-Serie von Nikon verfügt über ein konfokales optisches System, das eine stabile Messung von Proben mit hohem Helligkeitskontrast und transparenten Proben mit instabiler Lichtreflexion ermöglicht. Es ermöglicht genaue und stabile Messungen langer Dimensionen außerhalb des Sichtfelds. Das System bewahrt die primäre Leistung der VMZ-K-Serie und bietet gleichzeitig diese Verbesserungen.
Die NEXIV VMF-K-Serie von Nikon verfügt über mehrere Verbesserungen in der Benutzerfreundlichkeit. Die Kopfabdeckung kann von einer Person entfernt werden, während für die VMZ-K-Serie zwei Personen erforderlich sind. Der Messkopf ist an der Vorderseite mit einer LED ausgestattet, die den Status der Maschine anzeigt. Für eine stabile Installation ist das System außerdem mit Bodenankern der Serie VMZ-S kompatibel. Darüber hinaus enthält es eine Funktion zur Umwandlung der Messschiebergröße von mit VMZ-K erstellten Dateien, um sie an die Pixelzahl der Kamera in VMF-K anzupassen und so die Aufwärtskompatibilität sicherzustellen.
| VMF-K3040 / VMF-K6555 | |||||||
| Measuring head | Standard head (Type-S) | High-magnification head (Type-H) | 45× High-magnification head | ||||
| Optical magnification | Magnification | 1.5× | 3.0× | 7.5× | 15× | 30× | 45× |
| Working distance | 24 mm | 24 mm | 5 mm | 20 mm | 5 mm | 5 mm | |
| Confocal optics (height measurement) | Maximum scan height | 1 mm | |||||
| Field of view | 7.80×5.82 mm | 3.90×2.91 mm | 1.56×1.17 mm | 0.78×0.58 mm | 0.39×0.29 mm | 0.26×0.19 mm |
|
| Height measurement repeatability (2σ) | 0.6 μm | 0.35 μm | 0.25 μm | 0.25 μm | 0.2 μm | 0.2 μm | |
| Height resolution | 0.025 μm | 0.01 μm | |||||
| Light source | Green LED | ||||||
| Bright Field Optics (two-dimensional measurement) | Magnification method | Motorised 5-step zoom | |||||
| Field of view | 7.80×5.85~ 0.52×0.39 mm | 3.90×2.92~ 0.26×0.19 mm | 1.56×1.17~ 0.10×0.078 mm | 1.26×0.95~ 0.099×0.074 mm | 0.63×0.47~ 0.052×0.039 mm | 0.63×0.47~ 0.052×0.039 mm |
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| Illumination | Diascopic, coaxial episcopic and ring | Diascopic, coaxial episcopic | |||||
| Light source | White LED | ||||||
| Autofocus | TTL Laser AF, Image AF | ||||||
| Main body | Power source | AC 100V-240V ±10%, 50/60 Hz | |||||
| Power consumption | 13A-10A | ||||||
| Safety standard | SEMI S2/S8 compliance *1 | ||||||
| Model | VMF-K3040 | VMF-K6555 | |||||
| Main Body | XYZ strokes | 300×400×150 mm | 650×550×150 mm | ||||
| Accuracy guaranteed loading capacity | 20 kg | 30 kg | |||||
| Maximum permissible error (L: Length in mm) | Eux, MPE Euy, MPE ± (1.2 + 4L/1000) μm | ||||||
| Euxy, MPE ± (2.0 + 4L/1000) μm | |||||||
| Euz, MPE ± (1 + L/1000) μm | |||||||
| Minimum readout | 0.01 μm | ||||||
| Dimensions (WxDxH) and weight | Main body and table | 1146×1247×1973 mm / approx. 800 kg | 1198×1640×1973 mm / approx. 800 kg | ||||
| Controller | 190×450×440 mm / approx. 14 kg | ||||||
| Recommended installation dimensions (WxD) *2 | 3150×3000 mm | 3200×3300 mm | |||||
| Minimum installation dimensions (WxD) | 2500×1600 mm | 2500×1900 mm | |||||
*1: If installed according to SEMI guidelines, VMF-K will be compliant with SEMI S2/S8.
*2: Includes our recommended maintenance space.
Wenn Sie weitere Details zu diesem Produkt oder eine ausführlichere Beschreibung wünschen, stellt Ihnen unser Expertenteam gerne zusätzliche Informationen bereit und vereinbart bei Bedarf einen Besuch vor Ort.
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