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Technologie des sources de rayons X
A la pointe de la technologie, les sources de rayons X, conçues et fabriquées en interne par Nikon depuis 1986, sont au coeur de la qualité d’image supérieure des systèmes d’inspection et de tomographie numérique à rayons X.
Points clefs du produit
Technologie exclusive Rotating.Target 2.0 225 kV
La technologie Rotating.Target 2.0 permet un fonctionnement continu jusqu’à 450 W avec une résolution jusqu’à 3 fois supérieure pour la même puissance ou une acquisition de données 3 fois plus rapide pour une résolution donnée.
Source microfoyer unique de 450 kV
La source de rayons X à microfoyer 450 kV/450 W de Nikon est la seule au monde à combiner haute tension et une taille de tache focale haute résolution de 80 μm, autorisant l’inspection de composants à forte densité.
Source de rayons X hautes performances
La source de rayons X microfoyer Xi Nanotech de Nikon, leader sur le marché, est unique en son genre grâce à la conception exclusive de son générateur intégré, à sa tension maximale inégalée de 160 kV et à sa puissance cible réelle de 20 W.
Fonctions clefs
Faible coût de possession
Toutes les sources de rayons X de Nikon sont de conception à tube ouvert, ce qui permet un cycle de vie illimité, avec des coupelles de focalisation remplaçables par l'utilisateur, offrant un faible coût d’utilisation.
Une source, 5 options de cible
Sélectionnez la bonne cible pour votre application : de la cible en transmission avec une capacité de détection submicronique à la « Rotating.Target 2.0 », unique au monde pour des performances exceptionnelles, en passant par la cible 320 kV pour des échantillons plus denses.
Optimisation unique des cibles à rayons X
La cible multi-métal unique permet aux utilisateurs de modifier le profil d'émission des rayons X pour l'analyse des matériaux de faible densité. La cible peut être changée entre tungstène, argent, molybdène et cuivre en quelques secondes sans rompre le vide.
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