Tecnología de fuente de rayos X

En el corazón de la calidad de imagen superior de los sistemas de rayos X y TC de Nikon se encuentran fuentes de rayos X líderes en el mundo diseñadas y fabricadas internamente desde 1986.

Puntos destacados del producto

Rotating.Target 2.0 único de 225 kV

Rotating.Target 2.0 permite una operación continua de hasta 450 W con una resolución hasta tres veces mayor para la misma potencia, o recolección de datos tres veces más rápida para una resolución específica.

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Fuente exclusiva de microfoco de 450 kV

La fuente microfoco de rayos X de 450 kV/450 W de Nikon es la única en el mundo que ofrece alta energía combinada con un tamaño de punto focal de alta resolución de 80 µm, lo que permite la inspección de componentes densos.

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Fuente de rayos X superior

La fuente microfoco de rayos X, Xi Nanotech de Nikon, líder en el mercado, es única debido a su exclusivo diseño de generador integral y una energía máxima de 160 kV sin precedentes y una potencia de objetivo real de 20 W.

Funciones principales

Industrias/Casos prácticos

Industrias/Párrafos de casos de uso

Serie XT H

XT H 225 ST 2x

TC automatizada

MCT225

Serie XT V

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XT H 450

Solución única de TC y rayos X de microfoco de 450kV para la inspección no destructiva y de alta resolución de componentes grandes y densos como piezas fabricadas con aditivos metálicos, álabes de turbina de aleación metálica y piezas fundidas grandes.
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XT H 225 y XT H 320

Los sistemas versátiles de TC microfoco de Nikon para la inspección de alta resolución de componentes, que van desde conectores de plástico minúsculos hasta piezas de aluminio fundido para I+D, análisis de fallas y control de calidad de la producción.
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