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Tecnología de fuente de rayos X
En el corazón de la calidad de imagen superior de los sistemas de rayos X y TC de Nikon se encuentran fuentes de rayos X líderes en el mundo diseñadas y fabricadas internamente desde 1986.
Puntos destacados del producto
Rotating.Target 2.0 único de 225 kV
Rotating.Target 2.0 permite una operación continua de hasta 450 W con una resolución hasta tres veces mayor para la misma potencia, o recolección de datos tres veces más rápida para una resolución específica.
Fuente exclusiva de microfoco de 450 kV
La fuente microfoco de rayos X de 450 kV/450 W de Nikon es la única en el mundo que ofrece alta energía combinada con un tamaño de punto focal de alta resolución de 80 µm, lo que permite la inspección de componentes densos.
Fuente de rayos X superior
La fuente microfoco de rayos X, Xi Nanotech de Nikon, líder en el mercado, es única debido a su exclusivo diseño de generador integral y una energía máxima de 160 kV sin precedentes y una potencia de objetivo real de 20 W.
Funciones principales
Bajo costo de propiedad
Todas las fuentes de rayos X de Nikon tienen un diseño de tubo abierto, lo que permite un ciclo de vida ilimitado, con copas de filamento reemplazables por el usuario, lo que ofrece un bajo costo de propiedad.
Optimización única de objetivos de radiografía
El exclusivo objetivo multimetal permite a los usuarios cambiar el perfil de emisión de radiografía para el análisis de materiales de menor densidad. El objetivo se puede cambiar entre tungsteno, plata, molibdeno y cobre en segundos sin romper el vacío.
Una fuente, 5 opciones de objetivo
Seleccione el objetivo adecuado para su aplicación: desde el objetivo de transmisión con reconocimiento submicrométrico, hasta Rotating.Target 2.0 único en el mundo que brinda un excelente desempeño, hasta el objetivo de 320kV para muestras más densas.
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