La série NEXIV VMF-K de Nikon transforme la mesure optique, combinant des capacités 2D et 3D à grande vitesse avec une précision exceptionnelle. Son système confocal avancé augmente le rendement pour divers échantillons, prenant en charge la miniaturisation dans les secteurs des semiconducteurs et de l’ingénierie de précision.
La série NEXIV VMF-K de Nikon améliore les systèmes de mesure traditionnels grâce à un système optique confocal avancé. Conçue pour améliorer la vitesse de mesure, la série VMF-K permet aux utilisateurs d’analyser divers matériaux et composants avec une efficacité et une précision sans précédent.
La série NEXIV VMF-K relève les défis posés par les géométries d’échantillons complexes, notamment les surfaces à fort contraste et les matériaux transparents, ce qui permet aux utilisateurs de prendre des mesures qui étaient auparavant difficiles à obtenir. Les capacités de mesure intégrées 2D et 3D du système réduisent considérablement les temps d’inspection par rapport aux méthodes traditionnelles, ce qui permet des processus de contrôle qualité nettement plus rapides et plus complets.
La série NEXIV VMF-K améliore considérablement les capacités de mesure optique, ce qui permet des inspections 2D et 3D précises de divers échantillons. Son système confocal garantit des mesures précises des matériaux transparents et à fort contraste, ce qui améliore les analyses de surface et de hauteur. Ce système permet une inspection fiable des géométries complexes et des structures fines, ce qui est particulièrement utile dans la fabrication des semiconducteurs et des composants miniaturisés.
La série NEXIV VMF-K combine les mesures 2D et les mesures de hauteur dans un seul appareil, ce qui permet d’obtenir un rendement 1,5 fois supérieur à celui des modèles précédents. Son système optique confocal permet les mesures 2D et les mesures de hauteur simultanées dans le champ de vision, ce qui réduit considérablement le temps de mesure sans compromettre la précision.
La série NEXIV VMF-K de Nikon est parfaite pour la mesure de différents composants semiconducteurs, notamment les cartes sondes et les fils de liaison. Cette polyvalence en fait un outil essentiel pour une inspection complète des semiconducteurs et l’assurance qualité, et rationnalise les opérations en consolidant de multiples tâches de mesure en un système efficace.
La série NEXIV VMF-K de Nikon inclut un objectif 45x pour prendre en charge les mesures de conditionnement au niveau des WLP, (wafer-level packaging). Cette capacité de fort grossissement permet une inspection précise des structures ultra-fines, qui est essentielle pour maintenir le contrôle qualité lorsque les composants semiconducteurs deviennent plus petits.
La série NEXIV VMF-K de Nikon mesure avec précision les longues dimensions qui dépassent la taille du champ de vision tout en maintenant la précision. Cette fonctionnalité est essentielle pour la mesure des dispositifs à semi-conducteurs, qui nécessitent une précision de position de grandes dimensions dans un système de coordonnées.
Grâce à son système optique confocal avancé, la série NEXIV VMF-K de Nikon permet des mesures stables des échantillons à fort contraste. Cela garantit des images nettes et précises, même dans le cas d’échantillons présentant des variations importantes de luminosité ou de réflectivité.
La série NEXIV VMF-K de Nikon mesure avec précision des échantillons hautement transparents et fins, ce qui permet de résoudre un problème courant dans les systèmes de mesure optique. Cette capacité permet de mesurer des échantillons transparents et fins, tels que les films à surface métallique et les résistances à semiconducteur, ce qui améliore sa polyvalence pour diverses mesures.
La série NEXIV VMF-K combine les mesures optiques 2D et 3D avec un rendement 1,5 fois supérieur pour les cartes sondes. Elle est dotée d’un objectif de 45x et d’une source de lumière confocale LED (durée de vie de 30 000 heures) et prend en charge les mesures de conditionnement au niveau des wafers et des longues dimensions. Conforme à la norme SEMI S2/S8, elle est parfaite pour les applications dans les secteurs des semiconducteurs et de l’ingénierie de précision.
Axes (XYZ): 300x400x150 mm
| VMF-K3040 / VMF-K6555 | |||||||
| Measuring head | Standard head (Type-S) | High-magnification head (Type-H) | 45× High-magnification head | ||||
| Optical magnification | Magnification | 1.5× | 3.0× | 7.5× | 15× | 30× | 45× |
| Working distance | 24 mm | 24 mm | 5 mm | 20 mm | 5 mm | 5 mm | |
| Confocal optics (height measurement) | Maximum scan height | 1 mm | |||||
| Field of view | 7.80×5.82 mm | 3.90×2.91 mm | 1.56×1.17 mm | 0.78×0.58 mm | 0.39×0.29 mm | 0.26×0.19 mm |
|
| Height measurement repeatability (2σ) | 0.6 μm | 0.35 μm | 0.25 μm | 0.25 μm | 0.2 μm | 0.2 μm | |
| Height resolution | 0.025 μm | 0.01 μm | |||||
| Light source | Green LED | ||||||
| Bright Field Optics (two-dimensional measurement) | Magnification method | Motorised 5-step zoom | |||||
| Field of view | 7.80×5.85~ 0.52×0.39 mm | 3.90×2.92~ 0.26×0.19 mm | 1.56×1.17~ 0.10×0.078 mm | 1.26×0.95~ 0.099×0.074 mm | 0.63×0.47~ 0.052×0.039 mm | 0.63×0.47~ 0.052×0.039 mm |
|
| Illumination | Diascopic, coaxial episcopic and ring | Diascopic, coaxial episcopic | |||||
| Light source | White LED | ||||||
| Autofocus | TTL Laser AF, Image AF | ||||||
| Main body | Power source | AC 100V-240V ±10%, 50/60 Hz | |||||
| Power consumption | 13A-10A | ||||||
| Safety standard | SEMI S2/S8 compliance *1 | ||||||
| Model | VMF-K3040 | VMF-K6555 | |||||
| Main Body | XYZ strokes | 300×400×150 mm | 650×550×150 mm | ||||
| Accuracy guaranteed loading capacity | 20 kg | 30 kg | |||||
| Maximum permissible error (L: Length in mm) | Eux, MPE Euy, MPE ± (1.2 + 4L/1000) μm | ||||||
| Euxy, MPE ± (2.0 + 4L/1000) μm | |||||||
| Euz, MPE ± (1 + L/1000) μm | |||||||
| Minimum readout | 0.01 μm | ||||||
| Dimensions (WxDxH) and weight | Main body and table | 1146×1247×1973 mm / approx. 800 kg | 1198×1640×1973 mm / approx. 800 kg | ||||
| Controller | 190×450×440 mm / approx. 14 kg | ||||||
| Recommended installation dimensions (WxD) *2 | 3150×3000 mm | 3200×3300 mm | |||||
| Minimum installation dimensions (WxD) | 2500×1600 mm | 2500×1900 mm | |||||
*1: If installed according to SEMI guidelines, VMF-K will be compliant with SEMI S2/S8.
*2: Includes our recommended maintenance space.
Axes (XYZ): 650x550x150 mm
| VMF-K3040 / VMF-K6555 | |||||||
| Measuring head | Standard head (Type-S) | High-magnification head (Type-H) | 45× High-magnification head | ||||
| Optical magnification | Magnification | 1.5× | 3.0× | 7.5× | 15× | 30× | 45× |
| Working distance | 24 mm | 24 mm | 5 mm | 20 mm | 5 mm | 5 mm | |
| Confocal optics (height measurement) | Maximum scan height | 1 mm | |||||
| Field of view | 7.80×5.82 mm | 3.90×2.91 mm | 1.56×1.17 mm | 0.78×0.58 mm | 0.39×0.29 mm | 0.26×0.19 mm |
|
| Height measurement repeatability (2σ) | 0.6 μm | 0.35 μm | 0.25 μm | 0.25 μm | 0.2 μm | 0.2 μm | |
| Height resolution | 0.025 μm | 0.01 μm | |||||
| Light source | Green LED | ||||||
| Bright Field Optics (two-dimensional measurement) | Magnification method | Motorised 5-step zoom | |||||
| Field of view | 7.80×5.85~ 0.52×0.39 mm | 3.90×2.92~ 0.26×0.19 mm | 1.56×1.17~ 0.10×0.078 mm | 1.26×0.95~ 0.099×0.074 mm | 0.63×0.47~ 0.052×0.039 mm | 0.63×0.47~ 0.052×0.039 mm |
|
| Illumination | Diascopic, coaxial episcopic and ring | Diascopic, coaxial episcopic | |||||
| Light source | White LED | ||||||
| Autofocus | TTL Laser AF, Image AF | ||||||
| Main body | Power source | AC 100V-240V ±10%, 50/60 Hz | |||||
| Power consumption | 13A-10A | ||||||
| Safety standard | SEMI S2/S8 compliance *1 | ||||||
| Model | VMF-K3040 | VMF-K6555 | |||||
| Main Body | XYZ strokes | 300×400×150 mm | 650×550×150 mm | ||||
| Accuracy guaranteed loading capacity | 20 kg | 30 kg | |||||
| Maximum permissible error (L: Length in mm) | Eux, MPE Euy, MPE ± (1.2 + 4L/1000) μm | ||||||
| Euxy, MPE ± (2.0 + 4L/1000) μm | |||||||
| Euz, MPE ± (1 + L/1000) μm | |||||||
| Minimum readout | 0.01 μm | ||||||
| Dimensions (WxDxH) and weight | Main body and table | 1146×1247×1973 mm / approx. 800 kg | 1198×1640×1973 mm / approx. 800 kg | ||||
| Controller | 190×450×440 mm / approx. 14 kg | ||||||
| Recommended installation dimensions (WxD) *2 | 3150×3000 mm | 3200×3300 mm | |||||
| Minimum installation dimensions (WxD) | 2500×1600 mm | 2500×1900 mm | |||||
*1: If installed according to SEMI guidelines, VMF-K will be compliant with SEMI S2/S8.
*2: Includes our recommended maintenance space.
La série NEXIV VMF-K permet des mesures optiques avancées pour divers secteurs d’activités. Son système confocal permet des mesures 2D et 3D de divers composants, notamment les échantillons transparents et à fort contraste. Grâce à un rendement amélioré et à un fort grossissement, elle prend en charge la miniaturisation et les géométries complexes dans la fabrication moderne, en particulier dans les secteurs des semiconducteurs et de l’électronique.
La série NEXIV VMF-K combine des mesures 2D et des mesures de hauteur simultanées dans un champ de vision unique, ce qui la rend idéale pour des processus de conditionnement avancés. L’objectif 45x récemment standardisé permet des mesures précises de caractéristiques en dessous de 2 u03BCm, relevant ainsi directement les défis posés par des architectures de dispositifs semiconducteurs complexes.
La série NEXIV VMF-K permet une amélioration de 1,5x du rendement de mesure des cartes sondes par rapport à son prédécesseur. Cette amélioration de la vitesse ainsi que la capacité du système à maintenir des mesures stables au-delà du champ de vision, permet de rationaliser les processus d’inspection tout en assurant la précision de l’évaluation complète de la carte sonde.
La série NEXIV VMF-K utilise un système optique confocal avancé pour assurer une inspection précise des surfaces avec une réflectivité variable, ce qui la rend idéale pour l’analyse des wafers de semiconducteurs. Son objectif standardisé 45x capture les caractéristiques les plus fines des wafers, alors que la capacité de mesure 2D et de mesure de hauteur simultanées optimise l’efficacité de l’inspection dans chaque champ de vision.
Optimisée pour les flux de travail d’inspection de substrats, la série NEXIV VMF-K permet des mesures stables de matériaux difficiles, incluant les échantillons transparents et à fort contraste. Conçu à partir d’une technologie confocale éprouvée, le système fournit des vitesses de balayage 1,5x plus rapide que l’ancienne génération tout en maintenant la précision requise par les normes de production des substrats modernes.
La série NEXIV VMF-K de Nikon est particulièrement adaptée au secteur des semiconducteurs, en particulier pour la mesure des cartes sondes afin de répondre aux exigences avancées en matière de mesure des semiconducteurs. Elle est également appropriée pour la mesure d’échantillons transparents et à fort contraste lumineux avec une réflexion de lumière instable. Le système prend en charge les mesures de conditionnement au niveau des (WLP) et peut mesurer de longues dimensions au-delà du champ de vision.
La série NEXIV VMF-K de Nikon a une vitesse de balayage améliorée pour la mesure de la hauteur, ce qui permet d’obtenir une amélioration du rendement d’environ 1,5 fois par rapport aux autres modèles. De plus, un objectif 45x à fort grossissement a été ajouté à la gamme pour répondre aux besoins de mesure de dimensions plus fines.
Les principales caractéristiques incluent un rendement de mesure amélioré, le changement de source de lumière confocale d’une lampe au xénon à une LED pour une durée de vie plus longue (3 000 heures à 30 000 heures), une gamme de modèles 45x standardisés pour des mesures de semiconducteurs avancées, la conformité avec les normes SEMI S2/S8, une maintenabilité améliorée et une nouvelle conception extérieure. Le système combine la mesure 2D avec des images à fond clair avec la mesure simultanée de la hauteur à l’aide d’un système optique confocal.
La série NEXIV VMF-K de Nikon utilise un système optique confocal qui permet une mesure stable des échantillons avec un fort contraste lumineux et des échantillons transparents avec une réflexion de lumière instable. Elle permet une mesure précise et stable des longues dimensions au-delà du champ de vision. Le système conserve les performances initiales de la série VMZ-K tout en offrant ces améliorations.
La série NEXIV VMF-K de Nikon offre plusieurs améliorations de la convivialité. Une seule personne suffit à enlever le couvercle alors qu’il fallait deux personnes dans le cas de la série VMZ-K. Elle est équipée d’une LED à l’avant de la tête de mesure pour afficher le statut de la machine. Le système est également compatible avec les ancrages au sol de la série VMZ-S pour assurer la stabilité de l’installation. De plus, elle comprend une fonction pour convertir les fichiers de programmation créés avec le VMZ-K pour correspondre au nombre de pixels de la caméra dans le VMF-K, ce qui assure une compatibilité ascendante.
| VMF-K3040 / VMF-K6555 | |||||||
| Measuring head | Standard head (Type-S) | High-magnification head (Type-H) | 45× High-magnification head | ||||
| Optical magnification | Magnification | 1.5× | 3.0× | 7.5× | 15× | 30× | 45× |
| Working distance | 24 mm | 24 mm | 5 mm | 20 mm | 5 mm | 5 mm | |
| Confocal optics (height measurement) | Maximum scan height | 1 mm | |||||
| Field of view | 7.80×5.82 mm | 3.90×2.91 mm | 1.56×1.17 mm | 0.78×0.58 mm | 0.39×0.29 mm | 0.26×0.19 mm |
|
| Height measurement repeatability (2σ) | 0.6 μm | 0.35 μm | 0.25 μm | 0.25 μm | 0.2 μm | 0.2 μm | |
| Height resolution | 0.025 μm | 0.01 μm | |||||
| Light source | Green LED | ||||||
| Bright Field Optics (two-dimensional measurement) | Magnification method | Motorised 5-step zoom | |||||
| Field of view | 7.80×5.85~ 0.52×0.39 mm | 3.90×2.92~ 0.26×0.19 mm | 1.56×1.17~ 0.10×0.078 mm | 1.26×0.95~ 0.099×0.074 mm | 0.63×0.47~ 0.052×0.039 mm | 0.63×0.47~ 0.052×0.039 mm |
|
| Illumination | Diascopic, coaxial episcopic and ring | Diascopic, coaxial episcopic | |||||
| Light source | White LED | ||||||
| Autofocus | TTL Laser AF, Image AF | ||||||
| Main body | Power source | AC 100V-240V ±10%, 50/60 Hz | |||||
| Power consumption | 13A-10A | ||||||
| Safety standard | SEMI S2/S8 compliance *1 | ||||||
| Model | VMF-K3040 | VMF-K6555 | |||||
| Main Body | XYZ strokes | 300×400×150 mm | 650×550×150 mm | ||||
| Accuracy guaranteed loading capacity | 20 kg | 30 kg | |||||
| Maximum permissible error (L: Length in mm) | Eux, MPE Euy, MPE ± (1.2 + 4L/1000) μm | ||||||
| Euxy, MPE ± (2.0 + 4L/1000) μm | |||||||
| Euz, MPE ± (1 + L/1000) μm | |||||||
| Minimum readout | 0.01 μm | ||||||
| Dimensions (WxDxH) and weight | Main body and table | 1146×1247×1973 mm / approx. 800 kg | 1198×1640×1973 mm / approx. 800 kg | ||||
| Controller | 190×450×440 mm / approx. 14 kg | ||||||
| Recommended installation dimensions (WxD) *2 | 3150×3000 mm | 3200×3300 mm | |||||
| Minimum installation dimensions (WxD) | 2500×1600 mm | 2500×1900 mm | |||||
*1: If installed according to SEMI guidelines, VMF-K will be compliant with SEMI S2/S8.
*2: Includes our recommended maintenance space.
Si vous souhaitez obtenir plus de détails sur ce produit ou une description plus complète, notre équipe de spécialistes vous apportera un complément d’information et, si nécessaire, organisera une visite sur site.
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